產品名稱：桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀

桌面型單靶磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本套配置采用英真空腔體，鍍膜過程全向可視，便于實驗的觀察記錄，腔體設計開啟方便，易于清理，十分適合實驗室使用。
旋轉加熱樣品臺可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。該型號可選配膜厚儀組件，可實時監測膜厚數據，為實驗工藝提供可靠參數。

名稱	桌面型單靶磁控鍍膜儀
型號	TN-MSP180G-DC
特點	A.小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別 B.旋轉加熱樣品臺，有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量 C.可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等 D.可選配膜厚儀組件，可實時監測膜厚數據
技術參數	1.樣品臺： 直徑100mm， *高溫度500℃控溫精度 ±1℃，可旋轉 0-20rpm 可調 2.磁控靶槍： 2 英寸圓形平面靶,水冷  3.真空腔體： Φ180mm × H 215mm;高純石英; 觀察窗口 全向透明; 開啟方式 頂蓋拆卸式 4.直流電源： 1臺，輸出功率≤300W，輸出電壓≤600V，響應時間＜5ms 5.水冷系統 水箱容積 9L 流量 10L/min 6.供電電壓：AC220V 50H 整機功率 2kw 7.膜厚儀 測量精度 0.1埃米 冷卻方式 水冷（可選配膜厚儀組件，可實時監測膜厚數據） 8.本設備不含真空泵，用戶應搭配分子泵組進行使用，推薦本公司CY-GZK103A泵組。